真空uv電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求

簡單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù)

它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備

相對于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空UV電鍍的鍍膜硬度超過4H、95%酒精浸泡48小時(shí)畫格無脫落，鍍層厚度均勻、光澤度好、附著力強(qiáng)、高硬度、高致密度、耐酒精、耐刮擦、耐腐蝕、耐磨性能優(yōu)良。

真空uv電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)：

（1.

沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系

（2.

節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的

（3.

無環(huán)境污染：

由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當(dāng)小

但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒有大量被推廣,其和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴

但是隨著社會的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢會越來越明顯，在某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的。